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鈦靶材在真空電鍍領域的應用特點
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鈦靶材在真空電鍍領域的應用特點

發布時間 :2023-02-11 17:36:20 瀏覽次數 :

隨著時代的發展,為了滿足更安全、更節能、降低噪聲、減少污染物排放的要求,在表面處理工藝上,真空電鍍已經成為環保新趨勢。與一般的電鍍不同,真空電鍍更加環保,同時,真空電鍍可以生產出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

鈦靶材

真空電鍍基本是一種物理沉積現象,既是在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。而在這電鍍的過程中,靶材是至關重要的存在,那么鈦靶材在真空電鍍過程中的應用有哪些?寶雞巨偉鈦業,結合相關資料,將鈦靶材在真空電鍍中的應用特點,分享如下:

1、金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

2、再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

3、利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

4、鈦靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。

5、較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。

6、濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。

7、基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

8、薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜。

9、鈦靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。

10、鈦靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及有效率。

鈦靶材作為新興科技產品,將在更多領域發揮作用,若需更深入了解鈦靶材及選購產品,請隨時關注巨偉鈦業官網或電話咨詢(www.bjjwty.com ,15891077471 張經理)

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