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巨偉鈦業(yè)談濺射鈦靶材的應用特點
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巨偉鈦業(yè)談濺射鈦靶材的應用特點

發(fā)布時間 :2021-05-31 18:35:49 瀏覽次數(shù) :

使用大量鈦靶材的行業(yè)主要包括半導體集成電路,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質,光學器件等(這些材料按用途分類)。 其中,高純度濺射靶材主要用于材料的純度。要求更高穩(wěn)定性的領域,例如半導體,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質等。

鈦靶材

在所有應用中,半導體對濺射靶材具有較高的技術要求和純度,并且它們也是較昂貴的。 在這方面的要求明顯高于其他應用領域,如平板顯示器和太陽能電池。 在純度,內部微結構等方面設定了極其嚴格的標準。如果濺射靶材的雜質含量過高,則形成的膜將無法滿足使用所需的電性能,并且在加工過程中容易在晶片上濺射工藝、薄膜上形成的顆粒會引起短路或電路損壞,從而嚴重影響薄膜的性能。

芯片制造對濺射目標金屬純度的較高要求通常達到99.9995%以上,而平板顯示器和太陽能電池分別要求99.999%和99.995%。

除了純度外,該芯片還為濺射靶材的內部微觀結構設定了極其嚴格的標準。 經(jīng)過長期的實踐,有必要掌握生產(chǎn)過程中的關鍵技術,并生產(chǎn)出符合工藝要求的產(chǎn)品。

超高純金屬和濺射靶材是電子材料的重要組成部分。 濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純,靶材制造,濺射鍍膜和終端應用。 其中,靶材制造和濺射鍍膜是整個濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關鍵環(huán)節(jié)。

上述內容是巨偉鈦業(yè)為大家講解的濺射靶材的應用的相關知識,希望對大家有所幫助。

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